1.一种白炭黑的低温等离子体制备工艺，其特征在于该方法包括以下步骤：步骤（1）、把二氧化硅放入低温等离子体装置中；

步骤（2）、将改性剂在一定温度下加热汽化；

所述的改性剂为一氯乙烷、二氯乙烷、一氯丙烷中的至少一种；

所述的汽化温度为50～200℃；

步骤（3）、将汽化后的改性剂与一定流速的载气混合，并通入低温等离子体装置中；

所述的载气为Ar、N2、He中的至少一种，载气流速为30～200ml/min；

步骤（4）、在一定功率下，低温等离子体放电启动一段时间后，即可得到疏水白炭黑；

所述的等离子体放电功率为2～20W，处理30～300min，温度为20-80℃。

2.如权利要求1所述的一种白炭黑的低温等离子体制备工艺，其特征在于所述的低温等离子体的放电方式为：电晕放电、介质阻挡放电、滑动电弧放电、或者脉冲放电中的任意一种。