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专利号: 2018104976035
申请人: 成都天拓众成科技有限公司
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-07-05
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种互质双频相位展开方法,其特征在于,所述方法包括:分别采集第一投影图案和第二投影图案,所述第一投影图案的频率为预定频率,所述第二投影图案的频率为参考频率;

计算所述第一投影图案的相位为包裹相位,计算所述第二投影图案的相位为参考相位;所述计算所述第一投影图案的相位为包裹相位,计算所述第二投影图案的相位为参考相位之后还包括步骤:调节所述包裹相位和参考相位的尺度一致;

计算调节后的所述包裹相位和参考相位之间的相位差值;

对所述相位差值进行统一调整,调整后的相位差值为:其中, 为调整后的相位差值,k为未知的预定参数,f为预定频率,fr为参考频率;

按照预设规则根据所述包裹相位和参考相位确定预定参数;按照预设规则根据所述包裹相位和参考相位确定预定参数具体为:该预定频率和参考频率互质,根据该预定频率和参考频率按照预定规则自动建立查找表,该预定规则为:LUT[(kfr)mod f]=k

其中,k=0,1,…,f-1;

根据所述预定参数将所述包裹相位展开得到绝对相位;根据所述预定参数将所述包裹相位展开得到绝对相位具体为,根据在查找表中查找到的预定参数k,根据绝对相位的计算公式:将包裹相位进行展开,其中,Φ表征绝对相位,φ表征包裹相位。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述包裹相位和参考相位的计算方法为:其中,φ表征相位,n是相移系数,N是相移步数, 为第一投影图案或第二投影图案发生形变后的亮度。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述按照预设规则根据所述包裹相位和参考相位确定预定参数的步骤包括:根据所述相位差值在预设的查找表中查找出预定参数或解析直接求解预定参数,所述预设的查找表采用 公式自动生成,其中, 为调整后的相位差值,k为未知的预定参数,f为预定频率,fr为参考频率。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述参考频率比所述预定频率小1。

5.一种互质双频相位展开装置,其特征在于,所述装置包括:采集模块,用于采集第一投影图案和第二投影图案,所述第一投影图案的频率为预定频率,所述第二投影图案的频率为参考频率;

计算模块,用于计算所述第一投影图案的相位为包裹相位,计算所述第二投影图案的相位为参考相位;所述计算模块还用于:调节所述包裹相位和参考相位的尺度一致;

计算调节后的所述包裹相位和参考相位之间的相位差值;

对所述相位差值进行统一调整,调整后的相位差值为:其中, 为调整后的相位差值,k为未知的预定参数,f为预定频率,fr为参考频率;

查找模块,用于按照预设规则根据所述包裹相位和参考相位确定预定参数;按照预设规则根据所述包裹相位和参考相位确定预定参数具体为:该预定频率和参考频率互质,根据该预定频率和参考频率按照预定规则自动建立查找表,该预定规则为:LUT[(kfr)mod f]=k

其中,k=0,1,…,f-1;

展开模块,用于根据所述预定参数将所述包裹相位展开得到绝对相位;根据所述预定参数将所述包裹相位展开得到绝对相位具体为,根据在查找表中查找到的预定参数k,根据绝对相位的计算公式:将包裹相位进行展开,其中,Φ表征绝对相位,φ表征包裹相位。

6.如权利要求5所述的装置,其特征在于,所述包裹相位和参考相位的计算方法为:其中,φ表征相位,n是相移系数,N是相移步数, 为第一投影图案或第二投影图案发生形变后的亮度。

7.如权利要求5所述的装置,其特征在于,所述查找模块具体用于:根据所述相位差值在预设的查找表中查找出预定参数或解析直接求解预定参数,所述预设的查找表采用 公式自动生成,其中, 为调整后的相位差值,k为未知的预定参数,f为预定频率,fr为参考频率。

8.如权利要求5所述的装置,其特征在于,所述参考频率比所述预定频率小1。