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专利号: 2017105446116
申请人: 浙江工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2026-08-19
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.基于磁控形状记忆效应的箔片端面气膜密封结构,包括气膜密封的动环和静环;所述动环或静环中至少一个密封环的密封端面是箔片端面,所述带箔片端面的密封环包括圆环状的环本体(1)、扇形磁控形状记忆合金块(2)、环形箔片(3),环本体外侧下凹形成圆环形凹面,环本体内侧凸起形成圆环台阶,所述圆环台阶的上表面形成密封坝(12),所述圆环形凹面上开有若干个依照旋转中心对称分布的扇形槽(11),每个扇形槽(11)中放入与扇形槽(11)间隙配合的扇形磁控形状记忆合金块(2),所述扇形磁控形状记忆合金块(2)沿轴向的厚度大于所述扇形槽(11)的深度;所述环形箔片(3)分为外环形箔片(31)和内环形箔片(32),所述内环形箔片(32)沿周向均匀分割成与扇形槽数目相同且对应布置的扇形箔块(33);所述外环形箔片(31)通过螺钉(4)与环本体(1)固定,固定后的内环形箔片(32)的下表面刚好与扇形磁控形状记忆合金块(2)的上表面接触,所述内环形箔片(32)的上表面为楔形面,所述楔形面的内圆周面在密封处于静止状态时低于密封坝(12)平面,而在密封处于运行状态时受磁控形状记忆合金块(2)的形变作用产生微米级振幅的高频颤振,并在振幅最大时与密封坝平面齐平,所述楔形面的外圆周面始终低于密封坝平面。

2.如权利要求1所述的基于磁控形状记忆效应的箔片端面气膜密封结构,其特征在于:

所述扇形磁控记忆合金块(2)的周向角度小于所述扇形槽(11)的周向角度0.05~0.5°,所述扇形磁控记忆合金块1的内径尺寸大于所述扇形槽(11)内径尺寸0.01~0.1mm,所述扇形磁控记忆合金块(2)的外径尺寸小于所述扇形槽(11)外径尺寸0.01~0.1mm。

3.如权利要求2所述的基于磁控形状记忆效应的箔片端面气膜密封结构,其特征在于:

密封处于静止状态时所述楔形面的内圆周面低于密封坝平面0.5~3μm;密封处于静止状态时所述楔形面的内圆周面与外圆周面的高度差h的取值范围为1~5μm;密封处于运行状态时受扇形磁控形状记忆合金块的作用,所述楔形面的内圆周面轴向振幅的取值范围为0.5~3μm;密封处于运行状态时受扇形磁控形状记忆合金块的作用,所述楔形面的内圆周面轴向振动频率的取值范围为10~500Hz。