1.一种记忆合金表面微织构的制造方法，其特征在于，包括：

使用微织构模具对记忆合金表面进行模压成形，在所述记忆合金表面形成第一微凸起和第一微凹坑，所述微织构模具与所述第一微凸起对应的位置设置第二微凹坑，所述微织构模具与所述第一微凹坑对应的位置设置第二微凸起；

去除所述第一微凸起，保留所述第一微凹坑，使得所述记忆合金的模压表面形成平面，形成记忆合金平板；

对所述记忆合金平板进行热处理，所述热处理的温度大于所述记忆合金平板的相变温度，所述第一微凹坑形变为第三微凸起，得到记忆合金表面微织构。

2.根据权利要求1所述的记忆合金表面微织构的制造方法，其特征在于，所述第三微凸起的材料组织为奥氏体。

3.根据权利要求1所述的记忆合金表面微织构的制造方法，其特征在于，在热处理之前，所述记忆合金的材料组织为马氏体。