1.一种陶瓷表面抛光修复工艺，其特征在于，具体步骤如下：

（1）抛光：采用抛光液与磨轮配合对陶瓷工件表面进行研磨抛光，抛光结束后将抛光面清洗、干燥；

（2）预处理：将抛光后的工件送入盐酸多巴胺溶液中，振荡浸泡处理15-24h后取出，用去离子水清洗2-3遍后送入温度为60-65℃的金属盐水溶液，保温振荡反应30-50min后静置

1-5h，随后加入有机配体，在同样温度下继续振荡反应10-15h后取出工件，用去离子水洗涤

3-5次后真空干燥处理，最后将干燥后的工件送入电炉中，升温至300-450℃，保温1-5h后出料，自然冷却至室温；

（3）修复：配制修复液，将修复液均匀喷涂到预处理后的工件表面，然后将工件送入电炉中，在氮气氛围下先升温至600-650℃，保温20-30min后再升温至800-900℃，保温0.5-1h后出料，经冷却、清洗、干燥，即得经抛光修复处理后的陶瓷产品。

2.如权利要求1所述的一种陶瓷表面抛光修复工艺，其特征在于，所述的抛光液是由碳纳米管、微纳米氮化硅磨料、表面活性剂、水四者按照0.1:（10-50）：0.1:（120-200）的重量比配制而成。

3.如权利要求1所述的一种陶瓷表面抛光修复工艺，其特征在于，所述的磨轮的转速为

500-3000转/min，施加于工件表面的压力为0.5-6kg/cm2。

4.如权利要求1所述的一种陶瓷表面抛光修复工艺，其特征在于，所述步骤（2）中盐酸多巴胺溶液的浓度为0.5-5%，pH值为8.3-8.5。

5.如权利要求1所述的一种陶瓷表面抛光修复工艺，其特征在于，所述步骤（2）中金属盐水溶液是由硝酸锌、硝酸锂、硝酸钼中的一种与去离子水配制而成，浓度为15-50g/L。

6.如权利要求1所述的一种陶瓷表面抛光修复工艺，其特征在于，所述步骤（2）中的有机配体为2-甲基咪唑。

7.如权利要求1所述的一种陶瓷表面抛光修复工艺，其特征在于，所述步骤（3）中的修复液是由氧化硼-乙醇溶液，其浓度为1-50g/L。