1.一种酸刻蚀修饰微流控纸芯片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）超疏水滤纸的制备：用硅烷化纸修饰技术制备接触角为140   150°的超疏水滤纸；

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（2）滤纸掩膜的制作：在滤纸上通过绘图软件设计出不同图案的通道构型，经过手工加工后即得滤纸掩膜；

（3）超疏水滤纸的局部亲水改性：将步骤（2）制作好的滤纸掩膜浸泡于酸刻蚀剂中，浸润完全后取出，覆盖在步骤（1）制备的超疏水滤纸上并用玻璃片夹紧，置于60～90℃的温度下15～25 min，使酸刻蚀剂刻蚀浸透超疏水滤纸，取出冷却后，依次用乙醇、蒸馏水漂洗，室温下自然风干，即得微流控纸芯片；

所述的酸刻蚀剂为盐酸、硫酸、硝酸、磷酸、草酸、乙酸中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的酸刻蚀修饰微流控纸芯片的制备方法，其特征在于，各步骤中，所用的滤纸为定量分析滤纸、定性分析滤纸、层析定性分析滤纸中的一种。

3.根据权利要求1或2所述的酸刻蚀修饰微流控纸芯片的制备方法，其特征在于，步骤（3）中，所述的酸刻蚀剂为0.5～1 mol/L的酸性溶液。