1.一种基于硅超表面和纳米结构金属薄膜的彩色滤光片，其特征是：包括硅基板，所述硅基板端面上设置有呈阵列分布的硅超表面，阵列式硅超表面上端、硅基板与阵列式硅超表面的连接空隙处，分别设置有一层基于纳米结构的金属薄膜。

2.如权利要求1所述的一种基于硅超表面和纳米结构金属薄膜的彩色滤光片，其特征是：所述硅超表面为圆盘状，形成硅纳米圆盘阵列。

3.如权利要求1所述的一种基于硅超表面和纳米结构金属薄膜的彩色滤光片，其特征是：所述硅基板与阵列式硅超表面之间的空隙中的金属薄膜为纳米多孔膜。

4.如权利要求1所述的一种基于硅超表面和纳米结构金属薄膜的彩色滤光片，其特征是：所述阵列分布的硅超表面，每个硅超表面相当于一个纳米谐振器，能够同时产生由米氏散射引发的电偶极子和磁偶极子共振。

5.如权利要求2所述的一种基于硅超表面和纳米结构金属薄膜的彩色滤光片，其特征是：通过设置硅纳米圆盘阵列超表面的直径，所述彩色滤光片在可见光谱范围内，能够吸收某个特定波长而反射其他剩余波长光的结构能够成功地过滤出一种特定的颜色。

6.如权利要求1所述的一种基于硅超表面和纳米结构金属薄膜的彩色滤光片，其特征是：所述纳米圆盘阵列纳米圆盘按固定的间隙排列着，且该间隙小于可见光谱波长；

或硅纳米圆盘的高度应大于50纳米小于200纳米，圆盘间隙小于400纳米，纳米圆盘直径从50纳米到180纳米。

7.如权利要求1所述的一种基于硅超表面和纳米结构金属薄膜的彩色滤光片，其特征是：所述硅超表面高度一致，使其能够在同一共振波长处同时实现电偶极子和磁偶极子的共振。

8.如权利要求1-7中任一项所述的彩色滤光片的制备方法，其特征是：首先用电子束光刻的方法在硅基板上形成基于纳米阵列的金属薄膜，然后用盖金属薄膜作为硬掩膜来刻蚀下方的硅，以实现一定高度的硅纳米阵列超表面，对于纳米阵列下方的金属薄膜通过沉积方式得到。

9.一种显示器，其特征是：包括如权利要求1-7中任一项所述的彩色滤光片。

10.一种成像元件，其特征是：包括如权利要求1-7中任一项所述的彩色滤光片。