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专利号: 2016110065162
申请人: 电子科技大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-12-01
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种基于反射阵馈电的低剖面透镜天线,其特征在于:包括初级馈源、位于初级馈源下方的平板反射阵和位于初级馈源上方的透镜,形成初级馈源给反射阵馈电,反射阵给透镜馈电的结构;

所述平板反射阵由介质基片层和金属地板层构成,介质基片层靠近初级馈源的表面印刷有反射阵单元;反射阵单元用于补偿从初级馈源发射的电磁波相位以及在透镜处形成与目标体应用相适应的电磁波幅度分布;平板反射阵的口径不超过透镜的口径;

所述的平板反射阵和初级馈源的距离D与初级馈源的波束宽度BW成反比关系,D使平板反射阵具有大于70%的截获效率,且平板反射阵和透镜的距离D1大于D;

所述介质基片层的材料根据天线的工作频段、带宽适应性选择;

整个天线的焦径比即D1与透镜的直径d的比值小于1。

2.如权利要求1所述基于反射阵馈电的低剖面透镜天线,其特征在于:所述反射阵单元为多个具有不同尺寸的印刷结构单元。

3.如权利要求1所述基于反射阵馈电的低剖面透镜天线,其特征在于:所述介质基片层为单层或多层。

4.如权利要求1所述基于反射阵馈电的低剖面透镜天线,其特征在于:所述平板反射阵和初级馈源相互接触设置或初级馈源架空设置于平板反射阵上方。