1.一种RH真空精炼炉用圆台形套筒浸渍管，其特征在于：包括上升管和下降管，其中上升管上底面的面积大于下底面的面积，且上升管水平截面的面积沿着其轴向由下至上逐渐增大，所述上升管水平截面的面积是关于上升管轴向高度的连续函数；浸渍管包括中心管(100)和外套管(200)，所述的外套管(200)为倒圆台状空心管，外套管(200)的上底面的面积大于下底面的面积，所述的中心管(100)的顶部通过固定梁(300)与外套管(200)相固连，且中心管(100)和外套管(200)为同一轴心；其中：所述的中心管(100)为上升管，且中心管(100)为倒圆台状空心管，中心管(100)的上底面的面积大于下底面的面积；中心管(100)与外套管(200)构成的环形套管为下降管；所述的中心管(100)的锥角为5-30°。

2.根据权利要求1所述的一种RH真空精炼炉用圆台形套筒浸渍管，其特征在于：所述的外套管(200)的上部与固定梁(300)水平对应位置的外壁上设置有下层进气口(131)和上层进气口(132)，其中下层进气口(131)位于上层进气口(132)的下方；中心管(100)内壁设置有下层喷嘴(111)和上层喷嘴(112)，所述的下层喷嘴(111)和上层喷嘴(112)位于两个不相同的水平面上，且下层喷嘴(111)所在的水平面位于上层喷嘴(112)所在水平面的下方，所述的下层进气口(131)通过下层导气管(121)与下层喷嘴(111)相连通，上层进气口(132)通过上层导气管(122)与上层喷嘴(112)相连通。

3.根据权利要求1所述的一种RH真空精炼炉用圆台形套筒浸渍管，其特征在于：所述的中心管(100)内壁圆周上均匀的分布有2-6个下层喷嘴(111)，中心管(100)内壁圆周上均匀的分布有6-10个上层喷嘴(112)。

4.根据权利要求3所述的一种RH真空精炼炉用圆台形套筒浸渍管，其特征在于：所述的中心管(100)内设置有下环形导气管(141)和上环形导气管(142)，所述的下环形导气管(141)与下层喷嘴(111)位于同一水平面上，下层导气管(121)通过下环形导气管(141)与下层喷嘴(111)相连通，所述的上环形导气管(142)与上层喷嘴(112)位于同一水平面上，上层导气管(122)通过上环形导气管(142)与上层喷嘴(112)相连通。

5.根据权利要求4所述的一种RH真空精炼炉用圆台形套筒浸渍管，其特征在于：所述的下层喷嘴(111)距上底面的距离为距下底面距离的5-8倍。

6.根据权利要求2-5任意一项所述的一种RH真空精炼炉用圆台形套筒浸渍管，其特征在于：所述的下层喷嘴(111)和上层喷嘴(112)为三孔式喷嘴，且孔与孔之间的夹角b为

120°。

7.根据权利要求6所述的一种RH真空精炼炉用圆台形套筒浸渍管，其特征在于：所述的三孔式喷嘴包括2个下气孔(151)和1个上气孔(152)，且下气孔(151)的直径为3-5mm，上气孔(152)的直径为4-6mm。

8.根据权利要求6所述的一种RH真空精炼炉用圆台形套筒浸渍管，其特征在于：所述的固定梁(300)设置为4-8个。