1.一种亲水性有机硅膜的制备方法，其特征在于：所述的制备方法为，(1)通过有机硅源前驱体的水解聚合反应制备有机硅聚合溶胶；

(2)采用热涂法将硅锆溶胶擦涂在陶瓷支撑体上，高温条件下煅烧得到膜的过渡层；所述的煅烧温度为400～550℃；

(3)采用热涂法将步骤(1)中得到的有机硅聚合溶胶擦涂在步骤(2)中得到的过渡层上，涂完后煅烧得到有机硅膜；

(4)将步骤(3)中制得的有机硅膜在臭氧水溶液中浸泡得到改性后的有机硅膜；所述的臭氧水溶液浓度为0.5～2.5ppm，浸泡时间为10～150min，浸泡温度为常温。

2.如权利要求1所述的亲水性有机硅膜的制备方法，其特征在于：步骤(1)中，采用盐酸作为溶胶制备的催化剂，所得溶胶的浓度为0.1～0.5wt％。

3.如权利要求1所述的亲水性有机硅膜的制备方法，其特征在于：步骤(1)中所述的有机硅源前驱体为1，2-二(三乙氧基硅基)乙烷或1，2-二(三乙氧基硅基)乙烯。

4.如权利要求1所述的亲水性有机硅膜的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，硅锆溶胶的浓度为0.3wt％，涂擦时采用脱脂棉蘸取硅锆溶胶，按一个方向在所述陶瓷支撑体上擦涂。

5.如权利要求1所述的亲水性有机硅膜的制备方法，其特征在于：步骤(2)中煅烧时间为20～30min。

6.如权利要求1所述的亲水性有机硅膜的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，擦涂溶胶以及煅烧的操作重复6～8次。

7.如权利要求1所述的亲水性有机硅膜的制备方法，其特征在于：步骤(3)中，涂擦时采用脱脂棉蘸取有机硅聚合溶胶，按一个方向在所述过渡层上擦涂。

8.如权利要求1所述的亲水性有机硅膜的制备方法，其特征在于：步骤(3)中，煅烧温度为100～250℃，煅烧时间为20～30min。