1.一种无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1,将A mL浓H2SO4倒入反应容器中,降温至0℃并维持恒温,在搅拌条件下,向反应容器中依次加入B g石墨、C g硝酸钠和D g高锰酸钾,搅拌均匀,得到混合液;其中A:B:C:D=(100~130):5:(4~6):(12~18),石墨、硝酸钠和高锰酸钾的加料速度分别为0.3~
0.35g/min、0.4~0.6g/min和1.2~1.8g/min;
步骤2,在搅拌条件下,将混合液升温至25℃,持续搅拌并保温2.5~3.5h;
步骤3,在搅拌条件下,继续将混合液升温至35℃,持续搅拌并保温0.5~4h;
步骤4,在搅拌条件下,将混合液降温至0℃并恒温1.5~2.5h,然后向其中依次加入去离子水和H2O2溶液,得到深棕色GO产物;
步骤5,对深棕色GO产物进行洗涤,离心、干燥后即得到片状氧化石墨烯GO。
2.根据权利要求1所述的无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法,其特征在于:所述步骤2和步骤3中的升温速率为2~5℃/min。
3.根据权利要求1所述的无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法,其特征在于:所述步骤4中的降温速率为2~5℃/min。
4.根据权利要求1所述的无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法,其特征在于:所述步骤4中混合液与加入的去离子水和H2O2溶液的体积比为(100~130):(300~500):(50~100)。
5.根据权利要求1所述的无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法,其特征在于:所述步骤4中去离子水的加入速度为15~25mL/min,H2O2溶液的加入速度为6~8mL/min。
6.根据权利要求1所述的无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法,其特征在于:所述步骤4中加入去离子水后间隔25~35min再加入H2O2溶液。
7.根据权利要求1所述的无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法,其特征在于:所述步骤4中的H2O2溶液由体积比为1:5的H2O2和去离子水配制而成。
8.根据权利要求1所述的无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法,其特征在于:所述步骤5中用稀HCl和去离子水洗涤深棕色GO产物。
9.根据权利要求1所述的无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法,其特征在于:所述步骤5中的干燥为在75~80℃下干燥12~15h。
10.权利要求1-9中任意一项所述的无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法制得的片状氧化石墨烯GO,其特征在于:该片状氧化石墨烯GO的形貌为均匀的片状,且片状氧化石墨烯GO的厚度为0.5~3nm,其氧化程度ID/IG为0.993~1.116。