1.一种无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1，将A mL浓H2SO4倒入反应容器中，降温至0℃并维持恒温，在搅拌条件下，向反应容器中依次加入B g石墨、C g硝酸钠和D g高锰酸钾，搅拌均匀，得到混合液；其中A:B:C:D＝(100～130):5:(4～6):(12～18)，石墨、硝酸钠和高锰酸钾的加料速度分别为0.3～

0.35g/min、0.4～0.6g/min和1.2～1.8g/min；

步骤2，在搅拌条件下，将混合液升温至25℃，持续搅拌并保温2.5～3.5h；

步骤3，在搅拌条件下，继续将混合液升温至35℃，持续搅拌并保温0.5～4h；

步骤4，在搅拌条件下，将混合液降温至0℃并恒温1.5～2.5h，然后向其中依次加入去离子水和H2O2溶液，得到深棕色GO产物；

步骤5，对深棕色GO产物进行洗涤，离心、干燥后即得到片状氧化石墨烯GO。

2.根据权利要求1所述的无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法，其特征在于：所述步骤2和步骤3中的升温速率为2～5℃/min。

3.根据权利要求1所述的无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法，其特征在于：所述步骤4中的降温速率为2～5℃/min。

4.根据权利要求1所述的无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法，其特征在于：所述步骤4中混合液与加入的去离子水和H2O2溶液的体积比为(100～130):(300～500):(50～100)。

5.根据权利要求1所述的无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法，其特征在于：所述步骤4中去离子水的加入速度为15～25mL/min，H2O2溶液的加入速度为6～8mL/min。

6.根据权利要求1所述的无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法，其特征在于：所述步骤4中加入去离子水后间隔25～35min再加入H2O2溶液。

7.根据权利要求1所述的无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法，其特征在于：所述步骤4中的H2O2溶液由体积比为1:5的H2O2和去离子水配制而成。

8.根据权利要求1所述的无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法，其特征在于：所述步骤5中用稀HCl和去离子水洗涤深棕色GO产物。

9.根据权利要求1所述的无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法，其特征在于：所述步骤5中的干燥为在75～80℃下干燥12～15h。

10.权利要求1-9中任意一项所述的无高温氧化过程的片状氧化石墨烯GO的制备方法制得的片状氧化石墨烯GO，其特征在于：该片状氧化石墨烯GO的形貌为均匀的片状，且片状氧化石墨烯GO的厚度为0.5～3nm，其氧化程度ID/IG为0.993～1.116。