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专利号: 2016100387742
申请人: 杭州电子科技大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-02-20
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种紫外吸收薄膜的制备方法,其特征在于,该方法具体步骤是:

步骤(1)、将金属片用浓度为O.5~1.5mol/L的盐酸浸洗5~10秒,去离子水清洗后用氮气吹干,放入电炉的石英管中;

步骤(2)、石英管中持续通入氩气、氢气和氧气的混合气,将电炉温度升至900~1000℃后保温5~30分钟;

步骤(3)、同时向石英管内通入硼氨烷蒸气,20~30分钟后关闭通入硼氨烷蒸气;

步骤(4)、电炉停止加热,将石英管冷却到常温,冷却速率为20~30℃/min,然后关闭通入氢气、氩气和氧气,取出金属片;

步骤(5).将金属片取出,在金属片上表面旋涂PMMA溶液,PMMA溶液在空气中干燥5~30分钟形成PMMA薄膜黏附在金属片表面,然后浸入氯化铁溶液中浸泡10~60分钟去除金属片,之后将漂浮在氯化铁溶液表面的PMMA薄膜转移至基底表面,接着将基底浸入丙酮中,经过30~180分钟,获得转移至基底表面的氧掺杂氮化硼薄膜。

2.如权利要求1所述的一种紫外吸收薄膜的制备方法,其特征在于:所述的金属片的金属为铜、镍或铜镍合金。

3.如权利要求1所述的一种紫外吸收薄膜的制备方法,其特征在于:所述的基底为硅衬底或玻璃。

4.如权利要求1所述的一种紫外吸收薄膜的制备方法,其特征在于:石英管中持续通入氩气、氢气和氧气的混合气,氩气与氢气和氧气的流量比为1~3:2:0.005~0.05。

5.如权利要求1所述的一种紫外吸收薄膜的制备方法,其特征在于:硼氨烷蒸气通过水浴加热硼氨烷产生,水浴温度40~100℃。