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专利号: 2015108695484
申请人: 东莞酷派软件技术有限公司
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-06-08
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种吸附件,其特征在于,包括底部和设置于所述底部上的若干个吸附单元,所述吸附单元包括沿着其轴向相背设置的连接面和吸附面,所述连接面连接于所述底部上,所述吸附面为圆弧面,所述吸附面朝着所述底部凹陷。

2.根据权利要求1所述的吸附件,其特征在于,所述吸附件还包括疏水性膜,所述疏水性膜沉积于各个所述吸附单元之间。

3.根据权利要求2所述的吸附件,其特征在于,所述吸附件还包括粘接层,所述粘接层设置于所述底部上,所述粘接层与所述若干个吸附单元相背设置。

4.根据权利要求1~3任意一项所述的吸附件,其特征在于,所述若干个吸附单元的密度为单位平方毫米内8~40个。

5.根据权利要求4所述的吸附件,其特征在于,所述吸附面为半圆弧面,所述吸附面的圆心位于所述吸附单元的中心轴上。

6.根据权利要求5所述的吸附件,其特征在于,所述吸附面的直径为0.04~0.3mm。

7.根据权利要求6所述的吸附件,其特征在于,所述连接面的直径大于所述吸附面的直径。

8.根据权利要求7所述的吸附件,其特征在于,所述吸附单元还包括外周面,所述外周面为鼓形,且所述外周面朝着所述吸附单元的中心轴凹陷。

9.根据权利要求8所述的吸附件,其特征在于,所述吸附单元沿着轴向的高度为0.08~

0.32mm。

10.一种吸附件的制备方法,其特征在于,包括:提供初始光刻基板;

在所述初始光刻基板上制备若干个吸附孔获得目标光刻基板,所述吸附孔的底部为圆弧形,所述吸附孔的底部朝着吸附孔的开口凹陷;

将高分子聚合物涂抹或热压于所述目标光刻基板上直至所述聚合物冷凝形成吸附件;

将所述吸附基材与所述目标光刻基板分离。

11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,所述从所述目标光刻基板上取下所述吸附基材的步骤之后还包括:沉积疏水性膜于所述吸附件上。