1.一种含咔唑结构的高平面性二胺单体，其特征在于该单体结构如通式III～Ⅻ所示：

其中Ar2选自下列结构式中的任何一种：

—H，—CH＝CH2，—C≡CH，—CHO，—OH，—COOH，—SO3H，—Cl，—Br；

其中，Ar3选自下列结构式中的任何一种：

n＝0～6，m＝0～6，p＝0～6，同一结构式中的n、m和p不同时为0；

其中，Ar4选自下列结构式中的任何一种：

b＝0～6，n＝0～6，b与n不同时为0；

其中，Ar3和Ar4中的Ar5和Ar6选自下列结构式中的任何一种：

2.权利要求1所述含咔唑结构的高平面性二胺单体的合成方法，其特征在于包括以下步骤：(B1)利用2,7二卤代咔唑或3,6二卤代咔唑单体中活泼氢接枝Ar2，得到单体3和单体

4；(B2)利用步骤(B1)中的单体3和单体4的卤素原子与含有一个硼酸和一个氨基取代的Ar3单体通过Suzuki反应得到如结构通式Ⅲ和Ⅳ所示的含咔唑结构的高平面性二胺单体；其中步骤(B1)中单体3和单体4具有如下结构特征：其中X为氟、氯、溴或碘。

3.权利要求1所述含咔唑结构的高平面性二胺单体的合成方法，其特征在于包括以下步骤：(C1)将单体3和单体4与氨水在加压条件下进行胺化得到单体5和单体6；(C2)利用步骤(C1)中的单体5和单体6的氨基与含有一个卤原子和一个硝基取代的Ar3单体通过Ullmann偶联反应得到二硝基单体7和8；(C3)将步骤(C2)中的二硝基单体7和8还原获得如结构通式Ⅴ和Ⅵ所示的含咔唑结构的高平面性二胺单体；其中，单体3和单体4，步骤(C1)中单体5和单体6，步骤(C2)中二硝基单体7和8具有如下结构特征：其中X为氟、氯、溴或碘。

4.权利要求1所述含咔唑结构的高平面性二胺单体的合成方法，其特征在于包括以下步骤：(D1)利用单体3和单体4中的卤素原子与含有一个羟基和一个硝基取代的Ar4单体通过Ullmann偶联反应得到含有两个醚键和咔唑结构的二硝基单体9和10；(D2)将步骤(D1)中的二硝基单体还原成二胺，获得如结构通式Ⅶ和Ⅷ所示的含咔唑结构的高平面性二胺单体，其中，单体3和单体4，步骤(D1)中含有两个醚键和咔唑结构的二硝基单体9和10具有如下结构特征：其中X为氟、氯、溴或碘。

5.权利要求1所述含咔唑结构的高平面性二胺单体的合成方法，其特征在于包括以下步骤：(E1)利用单体3和单体4与氰化亚铜反应，得到单体11和单体12；(E2)利用步骤(E1)中的单体11和单体12氰基通过水解反应得到二羧酸单体13和单体14；(E3)利用步骤(E2)中的单体13和单体14以及二氯亚砜或草酰氯通过酰氯化反应将二甲酸转化成二酰氯单体15和单体16；(E4)利用步骤(E3)中的二酰氯单体15和单体16的卤素原子与含有一个氨基和一个硝基取代的Ar4单体反应得到含两个酰胺键和咔唑结构的二硝基单体17和18或利用步骤(E3)中的二酰氯单体15和单体16的卤素原子与含有一个羟基和一个硝基取代Ar4的单体进行消去反应得到含有两个酯键和咔唑结构的二硝基单体19和20；(E5)将步骤(E4)中的二硝基单体17和18还原成二胺，获得如结构通式Ⅸ和Ⅹ所示的含咔唑结构的高平面性二胺单体或将步骤(E4)中的二硝基单体19和20还原获得如结构通式Ⅺ和Ⅻ所示的含咔唑结构的高平面性二胺单体；其中步骤(E1～E4)中的单体具有如下结构特征：其中X为氟、氯、溴或碘。

6.权利要求1所述含咔唑结构的高平面性二胺单体应用于合成具有高阻隔性和功能化聚酰胺、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺或聚酯酰亚胺聚合物。