1.一种超临界二氧化碳染色设备中釜体的清洗装置，其特征在于：包括二氧化碳入口管道(1)、溶剂入口管道(2)、中心轴(3)、叶轮(4)、清洗浓度检测探头(6)、电动机(7)、丝杠(8)，加热单元(9)；

其中，中心轴(3)为两端开口的中空结构；所述中心轴(3)内部和丝杠(8)外部设有相互匹配的螺纹；所述中心轴和丝杠通过螺纹进行连接；所述丝杠(8)顶部通过气孔连接叶轮(4)；所述丝杠(8)为中空结构；所述叶轮(4)为中空、双吸、开放结构；所述叶轮(4)设有6个叶片(5)；所述叶片(5)为后弯式、机翼型、中空结构；所述叶片(5)外缘设有叶片孔道(10)，所述叶片孔道为双排孔；

所述中心轴(3)中部连接电动机(7)；

二氧化碳入口管道(1)通过旋转接头连接中心轴(3)底部、所述溶剂入口管道(2)通过阀门连接二氧化碳入口管道(1)；所述溶剂入口管道上设有加热单元(9)；

所述叶轮顶部设有清洗浓度检测探头(6)。

2.根据权利要求1所述清洗装置，其特征在于：中心轴旋转速度为10-500r/min，叶轮升降速度为0.5-5m/min。

3.根据权利要求1所述清洗装置，其特征在于：叶片入口角、出口角小于90°；叶片孔道孔径大小为0.5-2mm，孔间距为0.5mm。

4.利用权利要求1-3所述清洗装置清洗染料釜或染色釜或分离釜。

5.根据权利要求4所述清洗装置清洗釜体的方法，其特征在于：清洗条件为50-100℃、

10-25MPa，清洗的同时清洗浓度检测探头(6)进行自动检测，清洗时间为20-60min。

6.根据权利要求5所述的清洗方法，其特征在于：所述清洗溶剂为乙醇、甲醇、水。

7.根据权利要求6所述的清洗方法，其特征在于：清洗溶剂用量为二氧化碳总质量的

0.5-5％。