1.一种合金陶瓷薄膜的制备方法，其特征在于，包括：

在激光光束对合金板材的表面进行激光镭射工艺处理时，向所述合金板材的表面吹送指定反应气体，以使所述合金板材的表面形成合金陶瓷薄膜；

所述在激光光束对合金板材的表面进行激光镭射工艺处理时，向所述合金板材的表面吹送指定反应气体，以使所述合金板材的表面形成合金陶瓷薄膜的具体步骤，包括：在所述激光光束以第一条件对所述合金板材的表面进行激光镭射工艺处理时，向所述合金板材的表面吹送指定反应气体，以使所述合金板材的表面形成第一合金陶瓷薄膜；

在所述激光光束以第二条件对所述第一合金陶瓷薄膜的表面进行激光镭射工艺时，向所述第一合金陶瓷薄膜的表面吹送所述指定反应气体，以使所述第一合金陶瓷薄膜的表面形成第二合金陶瓷薄膜；

其中，所述第一条件包括第一功率、第一气量及第一扫描速度，所述第二条件包括第二功率、第二气量及第二扫描速度，且所述第一功率小于所述第二功率，所述第一气量小于所述第二气量，所述第一扫描速度大于所述第二扫描速度。

2.根据权利要求1所述的合金陶瓷薄膜的制备方法，其特征在于，所述合金板材包括以下之一或其任意组合：钛合金板材、铝合金板材、镁合金板材、锆合金板材或不锈钢板材。

3.根据权利要求1所述的合金陶瓷薄膜的制备方法，其特征在于，所述指定反应气体包括以下之一或其任意组合：氧气、氮气、乙炔或空气；

其中，所述指定反应气体的流速范围处于每分钟0.1毫升至每分钟1000毫升之间。

4.根据权利要求1所述的合金陶瓷薄膜的制备方法，其特征在于，所述激光镭射工艺包括脉冲激光，所述脉冲激光的波长处于10纳米至1650纳米之间。

5.根据权利要求4所述的合金陶瓷薄膜的制备方法，其特征在于，所述激光镭射工艺还包括：光斑直径、输出功率、脉冲宽度、脉冲频率、激光入射角及扫描速度，其中，所述光斑直径0.5毫米至5毫米，输出功率处于0.1瓦至1000瓦之间，所述脉冲宽度处于0至130纳秒之间，所述脉冲频率处于5千赫兹至30千赫兹，所述激光入射角处于5度至45度之间，所述扫描速度处于每秒0.1毫米至每秒10毫米之间。

6.根据权利要求1所述的合金陶瓷薄膜的制备方法，其特征在于，所述激光镭射工艺的保护气体为惰性气体。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的合金陶瓷薄膜的制备方法，其特征在于，所述合金陶瓷薄膜的厚度在1微米至20微米的范围内。

8.一种移动终端外壳，其特征在于，包括：使用如权利要求1至7中任一项所述的合金陶瓷薄膜的制备方法形成的合金陶瓷薄膜。

9.一种移动终端，其特征在于，包括如权利要求8所述的移动终端外壳。