1.一种水下气雾产生系统，其特征在于，该系统包括气源站、控制装置、气雾管网、管道，其中：气雾管网由多个气雾分散器构成，气雾分散器为中空圆柱管，包括左底座、右底座、圆柱管体、腔体、进气管以及外包膜，外包膜沿着圆柱管体的外径，紧紧覆盖在圆柱管体外层，外包膜从最外层到最内层依次为鱼线网层、无纺布层、微纳米膜层和基层，气雾分散器的管体的顶部沿着轴线方向平行设置一条或两条凹槽，凹槽中心设置与腔体相贯通的出气孔，从进气管进入腔体的气体，通过出气孔在凹槽中均匀扩散并透过外包膜产生微纳米气雾，该气雾分散器的管体的下半部扣合一半圆弧状的圆弧套，用于阻止气体从气雾分散器的下半部泄露。

2.如权利要求1所述的水下气雾产生系统，其特征在于，该气雾分散器中还设有配重，固定于气雾分散器腔体内，用于让气雾分散器稳定在水体指定位置中。

3.如权利要求2所述的水下气雾产生系统，其特征在于，该气雾分散器产生微纳米气雾的最小大气压数值为0.01Mpa。

4.如权利要求1、2或3所述的水下气雾产生系统，其特征在于，该微纳米膜层为干式延伸的微纳米膜，该微纳米膜层的气孔率为5-50％，厚度为6-40微米，平均气孔大小为

0.003-1纳米。

5.如权利要求1、2或3所述的水下气雾产生系统，其特征在于，该圆柱管体的两端与左底座、右底座螺纹连接，左底座为密封套，右底座中央设置有进气口，连接与管道相连通的进气管。

6.如权利要求1、2或3所述的水下气雾产生系统，其特征在于，该凹槽的深度为管体管壁厚度的1/4-1/2，凹槽的长度小于管体的长度。

7.如权利要求1、2或3所述的水下气雾产生系统，其特征在于，该气源站为空压机，该控制装置包括第一控制装置和第二控制装置，该第一控制装置为制冷机，该第二控制装置为过滤装置。

8.如权利要求1、2或3所述的水下气雾产生系统，其特征在于，该气源站为分体式制氧机，该控制装置包括第一控制装置和第二控制装置，该第一控制装置为压力、流量、温度控制装置，该第二控制装置为监控反馈报警装置。

9.一种水下气雾产生方法，其特征在于，包括：

气雾分散器生产步骤，气雾分散器的管体的顶部沿着轴线方向平行设置一条或两条凹槽，凹槽中心设置与气雾分散器的腔体相贯通的出气孔，用于从进气管进去腔体的气体，通过出气孔在凹槽中均匀扩散并透过气雾分散器的外包膜产生微纳米气雾气体；管体的下半部扣合一半圆弧状的圆弧套，用于阻止气体从气雾分散器的下半部释放泄露；

连接步骤，气雾分散器一端的进气管与管道相连通；管道经过第一控制装置和第二控制装置与气源站相连通。

10.如权利要求9所述的水下气雾产生方法，其特征在于，该气雾分散器产生微纳米气雾的最小大气压数值为0.01Mpa。

11.如权利要求9所述的水下气雾产生方法，其特征在于，该气源站为空压机，第一控制装置为制冷机，第二控制装置为过滤装置。

12.如权利要求9所述的水下气雾产生方法，其特征在于，该气源站为分体式制氧机,第一控制装置为压力、流量、温度控制装置，第二控制装置为监控反馈报警装置。

13.如权利要求12所述的水下气雾产生方法，其特征在于，该分体式制氧机包括一或多组独立单元，每组独立单元可产生10L/分的氧气。