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专利号: 2008101004589
申请人: 比亚迪股份有限公司
专利类型:发明专利
专利状态:无效专利
专利领域: 电解或电泳工艺;其所用设备〔4〕
更新日期:2024-09-06
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种镧基非晶合金材料的制备方法,其特征在于,该方法包括在镧基非晶合金基体的表面形成微弧氧化膜,所述微弧氧化膜的形成方法包括将镧基非晶合金基体置于盛有电解质溶液的电解槽中,以镧基非晶合金基体为阳极,不锈钢或石墨作为阴极,在微弧氧化的条件下使镧基非晶合金基体表面形成微弧氧化膜;所述电解质溶液为含有碱金属的硅酸盐、碱金属的氢氧化物和碳原子数为2-12的锌的水溶性羧酸盐的水溶液,在所述电解质溶液中,碱金属的硅酸盐的浓度为4-20克/升,碱金属的氢氧化物的浓度为1-10克/升,碳原子数为2-12的锌的水溶性羧酸盐的浓度为1-15克/升。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述碱金属的硅酸盐为硅酸钠和/或硅酸钾,所述碱金属的氢氧化物为氢氧化钠和/或氢氧化钾,所述碳原子数为2-12的锌的水溶性羧酸盐为乙酸锌和/或丙酸锌。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述微弧氧化的条件使微弧氧化膜的厚度为大于3微米且小于等于40微米。

4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述微弧氧化膜的厚度为4-30微米。

5.根据权利要求1或3所述的方法,其中,所述微弧氧化的条件包括电压为380-580伏,电流密度为16-32安/平方分米,电解质溶液的温度为20-40℃,微弧氧化的时间为

1-20分钟。

6.根据权利要求1所述的方法,其中,所述镧基非晶合金基体的表面粗糙度Ra小于

0.8。

7.根据权利要求1所述的方法,其中,该方法还包括将形成有微弧氧化膜的镧基非晶合金材料封孔,所述封孔的方法包括在氧化膜上涂敷封孔剂并干燥。

8.根据权利要求7所述的方法,其中,干燥的条件包括,干燥的温度为80-120℃,干燥的时间为40-60分钟。

9.一种镧基非晶合金材料,其特征在于,该镧基非晶合金材料是由权利要求1-8中任意一项所述的方法制得。